光学镜片抛光粉是什么成分? 对人体有什么危害?镜片边缘抛光之后,会有什么影响？

1、光学镜片抛光粉是什么成分? 对人体有什么危害?

1种是快抛粉;另1种是慢抛粉 从1940年开始，高氧化铈含量的稀土抛光粉开始取代氧化铁（即铁红）用于玻璃抛光，成为玻璃抛光加工过程中的关键工艺材料之1。与传统抛光粉—铁红粉相比，稀土抛光粉具有抛光速度快、光洁度高和使用寿命长的优点，而且能改变抛光质量和操作环境。例如用氧化铈抛光粉抛光透镜，1分钟完成的工作量，如用氧化铁抛光粉则需要30～60分钟。稀土抛光粉因其独特的化学机械作用原理而带来的高抛光效率，成为玻璃抛光材料的首选，被广泛用于镜片、光学元件（透镜、棱镜）、彩电玻壳、平板显示器用电子玻璃、硅片、磁盘玻璃基片等产品的抛光加工。 根据铈含量的不同，稀土抛光粉可分为高铈（>90%）、富铈（>70％)和低铈（<70%）3种。 根据其应用领域的不同，稀土抛光粉产品可分为微米级、亚微米级、纳米级3类，其特性与应用领域如下表所示： 类别 颗粒大小（m） 铈含量（％） 应用领域 微米级 1－10 40-80 眼镜片、光学元件、彩电玻壳 亚微米级 0.1-1 40-80 平板显示器用电子玻璃 高档 <0.1 99 硅片、磁盘玻璃基片 粉尘可以通过呼吸道，直接进入肺部。长时间及大量吸入可以在肺部沉积，形成矽肺。平时工作要记得戴防尘口罩。如果颗粒较粗会扎手，还可以引起皮肤搔痒，长期接触也会进入血液循环系统，而且玻璃粉末是无法在人休内被分解的，由于颗粒极小，容易被皮肤表厚吸收，很容易对皮肤造成伤害。现使用的抛光粉大多含铝和稀土成分较高，铝盐1旦进入人体，首先沉积在大脑内，可能导致脑损伤，造成严重的记忆力丧失，这是早老性痴呆症特有的症状。并且长期接触稀土含量过高的物品，会对人体的肝脏和骨骼造成危害。尤其是农村，食用井水的居民，将食用渗透了加工废水的井水，怎么变傻的、怎么癌变的都不知道。

2、镜片边缘抛光之后,会有什么影响？

镜片边缘抛光之后的影响：抛光后的镜片其边缘会变得更加光滑，但这样会影响从边缘进入到眼睛的光线。很容易造成反光，从而影响我们的视线。因此如果没有特殊情况时不建议对镜片进行抛光。平光眼镜是既没有近视度数，也没有屈光度数的眼镜。但品质好的平光眼镜可以阻挡部分紫外线和红外线对眼睛的伤害，且还可以过滤掉部分有害的光，能够让我们的视野更加清晰舒适。且其还具有减少电子产品对眼睛带来辐射的问题，能够很好的保护我们的眼睛。 平常怎么护理眼镜

1、正确拿取眼镜 我们在佩戴或者是摘取眼镜时，都应该用两只手拿着镜脚。长期用1只手进行摘戴的话很容易导致眼镜受损变形。

2、正确放置 我们不需要佩戴眼镜时，1定要将眼镜镜片朝上放在眼镜盒子里，不能随意放置，否则很容易使镜片被磨花，从而影响佩戴效果。同时也不能将镜片长时间放在高温和潮湿的地方，这样也容易使镜片过快老花甚至爆膜。

3、光学镜片抛光光圈散怎么处理？

抛光工艺:抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法。是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。抛光不能提高工件的尺寸精度或几何形状精度，而是以得到光滑表面或镜面光泽为目的，有时也用以消除光泽（消光）。通常以抛光轮作为抛光工具。抛光轮1般用多层帆布、毛毡或皮革叠制而成，两侧用金属圆板夹紧，其轮缘涂敷由微粉磨料和油脂等均匀混合而成的抛光剂。抛光时，高速旋转的抛光轮（圆周速度在20米/秒以上）压向工件，使磨料对工件表面产生滚压和微量切削，从而获得光亮的加工表面，表面粗糙度1般可达Ra0.63～0.01微米;当采用非油脂性的消光抛光剂时，可对光亮表面消光以改善外观。 大批量生产轴承钢球时，常采用滚筒抛光的方法。粗抛时将大量钢球、石灰和磨料放在倾斜的罐状滚筒中，滚筒转动时，使钢球与磨料等在筒内随机地滚动碰撞以达到去除表面凸锋而减小表面粗糙度的目的，可去除0.01毫米左右的余量。精抛时在木桶中装入钢球和毛皮碎块，连续转动数小时可得到耀眼光亮的表面。精密线纹尺的抛光是将加工表面浸在抛光液中进行的，抛光液由粒度为W5～W0.5的氧化铬微粉和乳化液混合而成。 抛光轮采用材质匀细经脱脂处理的木材或特制的细毛毡制成，其运动轨迹为均匀稠密的网状，抛光后的表面粗糙度不大于Ra0.01微米，在放大40倍的显微镜下观察不到任何表面缺陷。抛光工艺分如下5种1：机械抛光机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法，1般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特殊0件如回转体表面，可使用转台等辅助工具，表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具，在含有磨料的研抛液中.紧压在工件被加工表面上，作高速旋转运动。利用该技术可以达到Ra0.008的表面粗糙度，是各种抛光方法中最高的。光学镜片模具常采用这种方法。2： 化学抛光化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备，可以抛光形状复杂的工件，可以同时抛光很多工件，效率高。化学抛光的核心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度1般为数十微米。3：电解抛光电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性地溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴极反应的影响，效果较好。电化学抛光过程分为两步。

1、宏观整平溶解产物向电解液中扩散，材料表面粗糙度下降，Ra〉lum。

2、微观平整阳极极化，表面粗槌度提高，Ra＜lum.4： 超声波抛光将工件放入磨料悬浮液中并1起置于超声波场中，依靠超声波的振荡作用，使磨料在工件表面磨削抛光。超声波加工宏观力小，不会引起工件变形，但工装制作和安装较困难。超声波加工可以与化学或电化学方法结合。在溶液腐蚀、电解的基础上，再施加超声波振动搅拌溶液，使工件表面溶解产物脱离，表面附近的腐蚀或电解质均匀；超声波在液体中的空化作用还能够抑制腐蚀过程.有利于表面光亮化。5：流体抛光流体抛光是依靠高速流动的液体及其携带的磨粒冲刷工件表面达到抛光的目的。常用方法有磨料喷射加工、液体喷射加工、流体动力研磨等。流体动力研磨是由液压驱动，使携带磨粒的液体介质高速往复流过工件表面。介质主要采用在较低压力下流动性好的特殊化合物（聚合物状物质）并掺上磨料制成，磨料可采用碳化硅粉末。

4、光学镜片抛光光圈不圆是什么原因？

抛光粉化学机械抛光抛光粉抛光是为了使材料表面达到平整化的方式。传统的材料平面化技术较多，如热流法、回蚀法、旋转式玻璃法、电子环绕共振法、低压CVD、选择淀积、淀积1腐蚀1淀积、等离子增强CVD等，这些技术材料平面化工艺发展中都曾被应用，由于这些技术都属于材料的局部平面化技术，为了能达到全局平面化，使用抛光粉做化学机械抛光技术逐步开始发展。在上世纪的60年代起，使用抛兴粉化学机械抛光技术应用于硅衬底片的平坦化，从80年代末期开始，CMP大规模用于集成电路的ULSI抛光，目前的CMP不仅能保证超高平坦化要求，还能减少表面去除量，现在CMP研究的热门是关于超薄膜的去除和平坦化。从CMP设备的发展来看，最初的CMP机台是单头工作的，且效率较低、自动化程度较差，目前的CMP台己有多个机头，可保证抛光的效率，近期日本的1些公司还研发了线性抛光机台。使用抛光粉做化学机械抛光是1种兼顾化学抛光和机械抛光2者优点的1种坦化工艺技术[m-19}CMP过程可简单归结为:在抛光垫和抛光粉的作用下，首先由于抛光粉的化学作用使材料表面薄层部分被软化，随后在抛光粉、抛光垫的机械作用下将其去除，从而实现工件表面的高速平坦化。整个过程涉及抛光机台和抛光消耗品，主要消耗品包括抛光粉和抛光垫，大约占据CMP总成本的60% o CMP机理与抛光粉中的化学分密切相关，抛光材料影响着CMP抛光速率和表面缺陷。